ООО " Харьков Пром Постач "

Фоторезист ФП-383

Позитивный фоторезист ФП-383

ТУ 2378-005-29135749-2007

 

  Предназначен для реализации фотолитографических процессов в производстве полупроводниковых приборов и интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат.На данный момент один из лучших позитивных фоторезистов для процессов жидкостного травления в микроэлектронике. Превосходит по устойчивости в жидкостных травителях все существующие на рынке отечественные и импортные фоторезисты. Обладает высокой адгезией ко всем полупроводниковым и металлическим поверхностям. Не требует обработки поверхности для улучшения адгезии.
  Имеет превосходный контраст и светочувствительность. Может использоваться как для контактной, так и для проекционной фотолитографии.

Купить фоторезист ФП-383

Технические характеристики

No Характеристики Норма
1 Внешний вид фоторезиста Жидкость красно-корич цвета без осадка
2 Внешний вид пленки фоторезиста блестящая без разрывов
3 Относительная скорость фильтрации, отн. ед., не более 2,0
4 Кинематическая вязкость при (20+0,5) °C мм2/сек 6,0 - 6,5
5 Разрешающая способность, мкм, не более 1,0
6 Толщина пленки фоторезиста, мкм 1,0 - 1,2
7 Число оборотов при нанесении, об/мин 3000,0
8 Устойчивость пленки фоторезиста к проявителю, мин., не менее 15,0
9 Рекомендуемый проявитель УПФ-1Б

 

Рекомендации по применению

 -Подготовка поверхности

Для удаления воды с поверхности подложку следует непосредственно перед нанесением фоторезиста прогреть при 200°С в течение 30 минут и охладить до комнатной температуры.

 -Условия применения:

 -Нанесение
Распределить 1-2 мл фоторезиста на поверхности и дать растечься в течение 2 сек максимум.
Привести во вращение центрифугу. Центрифуга должна обеспечивать достижение скорости вращения 3000 об/мин максимум за 0,3 сек. Время центрифугирования составляет 25-30 сек.

Толщина пленки фоторезиста в зависимости от скорости вращения:

-Предварительная сушка

Рекомендуются сушка в термошкафу конвекционного типа с принудительной вентиляцией при температуре 95°С, с контролем температуры в пределах + 1°С. Время выдержки: 30 мин.

На промышленных линиях фотолитографии следует подобрать скорость и температуру конвейера так, чтобы обеспечить условия, эквивалентные конвекционному термошкафу.

 -Экспонирование

Экспонирование ультрафиолетовой лампой в диапазоне 350-450 нм.

 -Проявление

Рекомендуется проявитель УПФ-1Б для максимального контроля над процессом.

 -Термообработка после проявления

Термообработка необходима для увеличения стойкости пленки фоторезиста в процессах жидкостного и сухого травления.

Рекомендуются термозадубливание в термошкафу конвекционного типа с принудительной вентиляцией при температуре 120 - 125°С. Время выдержки: 30 мин. Для более сильных травителей возможно повышение температуры задубливания до 145°С.

 -Удаление

 Для удаления пленки фоторезиста ФП-383 рекомендуется экологически безопасный сниматель СПР-01Ф или кислородная плазма.

 -Хранение

Хранить в сухом помещении при температурах 10-21°С в закрытых коричневых стеклянных бутылках. Гарантийный срок хранения - 6 месяцев от даты розлива.

Продажа фоторезиста ФП-383

® Виталий Тарасенко 2010-2015